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      白光干涉測厚儀

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      白光干涉測厚儀

      白光干涉測厚儀

      白光干涉測厚儀是用來測量材料及物體厚度的儀表。在工業生產中常用來連續或抽樣測量產品的厚度(如鋼板、鋼帶、薄膜、紙張、金屬箔片等材料)。設計、安裝測厚儀時要在可能的條件下盡量靠近工作輥,目的是降低板厚的滯后調整時間。白光干涉測厚儀可以用來在線測量軋制后的板帶材厚度,并以電訊號的形式輸出。該電訊號輸給顯示器和自動厚度控制系統,以實現對板帶厚度的自動厚度控制。
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      【海洋光學】NanoCalc薄膜反射光譜儀系統

      【海洋光學】NanoCalc薄膜反射光譜儀系統

      • 品牌: 美國海洋光學
      • 型號: NanoCalc
      • 產地:美國
      • 供應商:蔚海光學儀器(上海)有限公司

        NanoCalc 薄膜反射測量系統 薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統可以用來進行10nm~250m的膜厚分析測量,對單層膜的分辨率為0.1nm。根據測量軟件的不同,可以分析單層或多層膜厚。 產品特點 可分析單層或多層薄膜 分辨率達0.1nm 適合于在線監測 操作理論 最常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。 查找n和k值 可以進行多達三層的薄膜測量,薄膜和基體測量可以是金屬、電介質、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數材料的n和k值數據庫,用戶也可以自己添加和編輯。 應用 NanoCalc薄膜反射材料系統適合于在線膜厚和去除率測量,包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質上的抗反射涂層、抗磨涂層等。 NanoCalc系統 NC-UV-VIS-NIR 重量: 250-1100 nm 厚度: 10 nm-70 m 光源: 氘鹵燈 NC-UV-VIS 重量: 250-850 nm 厚度: 10 nm-20 m 光源: 氘鹵燈 NC-VIS-NIR 重量: 400-1100 nm 厚度: 20nm-100m (可選1m-250m) 光源: 鹵燈 NC-VIS 重量: 400-850 nm 厚度: 50 nm-20μm 光源: 鹵燈 NC-NIR 重量: 650-1100 nm 厚度: 70 nm-70μm 光源: 鹵燈 NC-NIR-HR 重量: 650-1100nm 厚度: 70 nm-70μm 光源: 鹵燈 NC-512-NIR 重量: 900-1700 nm 厚度: 50 nm-200μm 光源: 高亮度鹵燈 NanoCalc規格 入射角: 90° 層數: 3層以下 需要進行參考值測量: 是 透明材料: 是 傳輸模式: 是 粗糙材料: 是 測量速度: 100ms - 1s 在線監測: 可以 公差(高度): 參考值測量或準直(74-UV) 公差(角度): 參考值測量 微黑子選項: 配顯微鏡 顯示選項: 配顯微鏡 定位選項: 6"和12" XYZ 定位臺 真空: 可以

      薄膜測厚儀

      薄膜測厚儀

      • 品牌: 美國AEP Technology
      • 型號: NanoMap-WLS
      • 產地:美國
      • 供應商:aep Technology中國辦事處

        薄膜測厚儀儀器簡介:提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數據輸出、數據自動動態存儲、自定義數據顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數據。表面統計的計算包括峰值和谷值分析。基于傅立葉變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數據配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區差異繪圖。膜厚儀主要特點:◆微觀二維(2D)和三維(3D)形貌輪廓獲取◆多種測量功能將采樣數據運算后,可獲得精確定量的面積(空隙率,缺陷密度,磨損輪廓截面積等)、體積(孔深,點蝕,圖案化表面,材料表面磨損體積以及球狀和環狀工件表面磨損體積等)、臺階高度、線與面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半徑以及其它幾何參數等測量數據。NanoMap-1000WLINanoMap-1000WLI膜厚儀是非接觸式三維高清圖像的光學輪廓儀白光干涉儀器 - 白光干涉帶來了高的分辨率、 400萬像素的圖像、大的掃描范圍,可定制的波長范范圍,使用戶可以輕松靈活的的到任何表面形貌。提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數據輸出、數據自動動態存儲、自定義數據顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數據。表面統計的計算包括峰值和谷值分析。基于傅立葉變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數據配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區差異繪圖。測量表面可以覆蓋90%以上材料表面。設備傳感器精度高,穩定性好,材料應用面廣。熱噪聲是同類產品最低的。垂直分辨率可達0.01 nm ( phase-shift mode) 可測跨學科、跨領域的各種樣品表面,包括透明、金屬材料,半透明、高漫反射,低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發、牙齒…);膜厚儀參數性能追尋持續改進的目標AEP的技術致力于日新月異的改善產品性能參數。 欲了解最新的配置和性能,請與我們聯系。搭載多鏡頭 最多可同時搭載6枚物鏡Z軸聚焦范圍 0.1納米至10mm手動旋轉平臺范圍 360度高清圖像2維、3維的直方圖等視圖白光干涉可以呈現2維和3維圖像。利用所提供的軟件,通過設置一些選項、可以得到客戶需求的的曲線、標繪、視圖(例如直方圖及雷達圖等)成像光源長壽命強光LED,用戶可自選波長范圍白光干涉儀對其光源承諾史無前例的十年質保。高亮的LED允許成像樣品的反射率范圍從小于0.4%到100%(高亮度的LED使反射率從小于0.4%到100%的樣品均可清晰成像。)白光干涉光源承諾十年質保。三維形貌儀允許客戶改變可用波長掃描各種樣品。聯系方式:aep Technology電話:+86-010-68187909傳真:+86-010-68187909手機:+86-15611184708何先生公司網址:www.aeptechnolongy.com.cn

      NanoCalc薄膜反射光譜儀系統

      NanoCalc薄膜反射光譜儀系統

      • 品牌: 美國海洋光學
      • 型號: NanoCalc
      • 產地:美國
      • 供應商:雷迪美特中國有限公司

        NanoCalc 薄膜反射測量系統薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統可以用來進行10nm~250μm的膜厚分析測量,對單層膜的分辨率為0.1nm。根據測量軟件的不同,可以分析單層或多層膜厚。產品特點可分析單層或多層薄膜分辨率達0.1nm適合于在線監測操作理論最常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。查找n和k值可以進行多達三層的薄膜測量,薄膜和基體測量可以是金屬、電介質、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數材料的n和k值數據庫,用戶也可以自己添加和編輯。應用NanoCalc薄膜反射材料系統適合于在線膜厚和去除率測量,包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質上的抗反射涂層、抗磨涂層等。NanoCalc系統NC-UV-VIS-NIR重量:250-1100 nm厚度:10 nm-70 μm光源:氘鹵燈NC-UV-VIS重量:250-850 nm厚度:10 nm-20 μm光源:氘鹵燈NC-VIS-NIR重量:400-1100 nm厚度:20nm-100μm (可選1μm-250μm)光源:鹵燈NC-VIS重量:400-850 nm厚度:50 nm-20μm光源:鹵燈NC-NIR重量:650-1100 nm厚度:70 nm-70μm光源:鹵燈NC-NIR-HR重量:650-1100nm厚度:70 nm-70μm光源:鹵燈NC-512-NIR重量:900-1700 nm厚度:50 nm-200μm光源:高亮度鹵燈NanoCalc規格入射角:90°層數:3層以下需要進行參考值測量:是透明材料:是傳輸模式:是粗糙材料:是測量速度:100ms - 1s在線監測:可以公差(高度):參考值測量或準直(74-UV)公差(角度):參考值測量微黑子選項:配顯微鏡顯示選項:配顯微鏡定位選項:6"和12" XYZ 定位臺真空:可以

      非接觸式硅片厚度測量儀SIT-200

      非接觸式硅片厚度測量儀SIT-200

      • 品牌: 上海屹持光電
      • 型號: SIT-200
      • 產地:日本
      • 供應商:上海屹持光電技術有限公司

        硅片厚度測量儀(SIT-200)由精確可調激光光源,聚焦傳感器,光學接收器組成。波長掃描光聚焦照射到目標上,由目標表面和背面反射光干涉形成干涉圖案,經過聚焦傳感器后由光學探測器進行檢測。

      膜厚光譜分析儀系統

      膜厚光譜分析儀系統

      • 品牌: 日本HalfMoon
      • 型號: *
      • 產地:日本
      • 供應商:上海瞬渺光電技術有限公司

        產品特點:?光譜儀(MCPD-9800/MCPD-3700/MCPD-7700)提供豐富選配套件以及客制化光纖。?可依據安裝現場需求評估設計。?可靈活架設于各種環境下的最佳即時測量系統。測量項目: 分光光譜儀種類測量波長范圍MCPD-9800:高動態范圍型360~1100nmMCPD-3700:紫外/可視/近紅外光型220~1000nmMCPD-7700:高感度型220~1100nm平面顯示器模組測量:平面顯示器(FPD)模組、液晶顯示器(LCD)模組、電漿顯示器(PDP)模組、CRT顯示器、OLED面板系統架構: ①光譜儀②受光光纖③放射感應器測量實例: 液晶面板色度測量液晶面板對比測量

      嵌入式膜厚測試儀

      嵌入式膜厚測試儀

      • 品牌: 日本HalfMoon
      • 型號: 01
      • 產地:日本
      • 供應商:上海瞬渺光電技術有限公司

        產品特點:?自由搭配的光纖架構,可安裝于生產線上、半導體晶圓研磨設備或真空鍍膜設備中。?遠端同步控制、高速多點同步測量等。?豐富多樣的光學系統套件與應用軟件,提供特殊環境下最理想的膜厚解決方案。產品架構: ?半導體晶圓面內分布測量?玻璃基板面內分布測量?即時性量測?輸送方向的定點品質管理?對應真空環境之設備?即時性測量?輸送方向的全面品質管理

      膜厚測量儀

      膜厚測量儀

      • 品牌: 日本HalfMoon
      • 型號: -
      • 產地:日本
      • 供應商:上海瞬渺光電技術有限公司

        產品特點:?薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析。?高性能的低價光學薄膜測量儀。?藉由絕對反射率光譜分析膜厚。?完整繼承FE-3000高端機種90%的強大功能。?無復雜設定,操作簡單,短時間內即可上手。?非線性最小平方法解析光學常數(n:折射率、k:消光系數)。產品規格: 型號FE-300VFE-300UVFE-300NIR對應膜厚標準型薄膜型厚膜型超厚膜型樣品尺寸最大8寸晶圓(厚度5mm)膜厚范圍100nm~40μm10nm~20μm3μm~30μm15μm~1.5mm波長范圍450nm~780nm300nm~800nm900nm~1600nm1470nm~1600nm膜厚精度±0.2nm以內±0.2nm以內--重復再現性(2σ)0.1nm以內0.1nm以內--測量時間0.1s~10s以內測量口徑約Φ3mm光源鹵素燈UV用D2燈鹵素燈鹵素燈通訊界面USB尺寸重量280(W)×570(D)×350(H)mm,約24kg軟件功能標準功能波峰波谷解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乘法解析選配功能材料分析軟件、薄膜模型解析、標準片解析應用范圍: ?半導體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)?光學薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)應用范例:?PET基板上的DLC膜?Si基板上的SiNx

      橢圓偏光膜厚測量儀(手動)

      橢圓偏光膜厚測量儀(手動)

      • 品牌: 日本HalfMoon
      • 型號: 1
      • 產地:日本
      • 供應商:上海瞬渺光電技術有限公司

        產品特點:?400波長以上多通道分光的橢偏儀,高速測量橢圓偏光光譜。?自動變更反射測量角度,可得到更詳細的薄膜解析數據。?采用正弦桿自動驅動方式,展現測量角度變更時優異的移動精度。?搭載薄膜分析所需的全角度同時測量功能。?可測量晶圓與金屬表面的光學常數(n:折射率、k:消光系數)。產品規格: 樣品對應尺寸100×100mm測量方式偏光片元件回轉方式入射/反射角度范圍45~90o入射/反射角度驅動方式反射角度可自動變更波長測量范圍300~800nm分光元件Poly-chrometer尺寸650(H)×400(D)×560(W)mm重量約50kg

      橢圓偏光膜厚測試儀(自動)

      橢圓偏光膜厚測試儀(自動)

      • 品牌: 日本HalfMoon
      • 型號: //
      • 產地:日本
      • 供應商:上海瞬渺光電技術有限公司

        產品特點:?橢圓偏振術測量紫外光到可見光波長橢圓參數。?0.1nm以上奈米級光學薄膜厚度測量。?400波長以上多通道分光的橢偏儀,高速測量橢圓偏光光譜。?可自由變換反射測量角度,得到更詳細的薄膜解析數據。?非線性最小平方法解析多層膜、光學常數。產品規格: 膜厚測量范圍0.1nm~波長測量范圍250~800nm(可選擇350~1000nm)感光元件光電二極管陣列512ch(電子制冷)入射/反射角度范圍45~90o電源規格AC1500VA(全自動型)尺寸1300(H)×900(D)×1750(W)mm重量約350kg(全自動型)應用范圍: ■半導體晶圓?電晶體閘極(Gate)氧化薄膜、氮化膜,電極材料等?SiO2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al2O2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN?光阻劑光學常數(波長色散)■化合物半導體?AlxGa(1-x)As多層膜、非結晶矽■平面顯示器?配向膜?電漿顯示器用ITO、MgO等■新材料?類鉆碳薄膜(DLC膜)、超傳導性薄膜、磁頭薄膜■光學薄膜?TiO2、SiO2、多層膜、抗反射膜、反射膜■平版印刷領域?g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)、KrF(248nm)等于各波長的n、k值評價應用范例: 非線性最小平方法比對NIST標準樣品(SiO2)膜厚精度確認

      反射式膜厚測量儀

      反射式膜厚測量儀

      • 品牌: 日本HalfMoon
      • 型號:
      • 產地:日本
      • 供應商:上海瞬渺光電技術有限公司

        產品特點: ?非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計。?高精度、高再現性測量紫外到近紅外波長反射率光譜,分析多層薄膜厚度、光學常數(n:折射率,k消光系數)。?寬闊的波長測量范圍。(190nm-1100nm)?薄膜到厚膜的膜厚測量范圍。(1nm~250μm)?對應顯微鏡下的微距測量口徑。產品規格: 標準型厚膜專用型膜存測量范圍1nm~40μm0.8μm~250μm波長測量范圍190~1100nm750~850nm感光元件PDA512ch(電子制冷)CCD512ch(電子制冷)PDA512ch(電子制冷)光源規格D2(紫外線)、12(可見光)、D2+12(紫外-可見光)12(可見光)電源規格AC100V±10V750VA(自動樣品臺規格)尺寸4810(H)×770(D)×714(W)mm(自動樣品臺規格之主體部分)重量約96kg(自動樣品臺規格之主體部分)應用范圍: FPD-LCD、TFT、OLED(有機EL)半導體、復合半導體-矽半導體、半導體鐳射、強誘電、介電常數材料資料儲存-DVD、磁頭薄膜、磁性材料光學材料-濾光片、抗反射膜平面顯示器-液晶顯示器、膜膜電晶體、OLED薄膜-AR膜其他-建筑用材料測量范圍: 玻璃上的二氧化鈦膜厚、膜質分析

      OSP測量儀

      OSP測量儀

      • 品牌: 南京科美
      • 型號: ST4080-OSP
      • 產地:韓國
      • 供應商:北京三尼陽光科技發展有限公司

        儀器簡介:1996年以來,科美在半導體,平板顯示器,電子物質,生命科學和化學分析上,研發和提供了獨特的,先進的解決方案。科美,作為測量和分析技術市場上的領頭和動力,以它突出的表現得到了世界范圍的認可。技術參數:波長范圍 420nm ~ 640nm 厚度測量范圍 350 ~ 3 最小光斑尺寸 1.35, 0.135 目標面積 864X648 / 86.4X64.8 物鏡轉動架 5X(spot size 20), 50X(spot size 0.2) 測量層 1 固定樣臺面積 270mm(L) X 240mm(D) Z軸再現性 ± 1 自動Z裝置 Z direction Head Movement Travel range: 50mm Max. velocity: 50mm/s 特征 Non-destructive OSP thickness measurement No sample preparation for fast and easy operation Available to detect OSP coating on Cu with rough surface conditions Auto-focusing function 3D contours results主要特點:ST4080-OSP(有機可焊性保護膜)專用于測量PCB/PW板的銅鉑表面的OSP厚度。作為使用分光反射法的非破壞性光學測量儀,它可提供平均厚度和詳細的3D平面輪廓資料,使得實時檢測無需任何的樣品制備。 由于ST4080-OSP具有測量很小面積與自動聚焦功能,適用于PCB基板表面的實模式。ST4080-OSP基于科美公司的厚度測量技術,而它在半導體,平板顯示與其他電子材料行業方面的可靠性得到了證實。 為什么要選擇 ST4080-OSP? ST4080-OSP使用反射測量法提供PCB/PWB表面OSP涂層厚度的非接觸和非破壞性實時測量。 ST4080-OSP 無需樣品制備,可確保快速和簡便操作。 ST4080-OSP測量的光斑尺寸可減小到0.135,這使得它可測量表面粗糙的銅的OSP涂層厚度. ST4080-OSP 與紫外可見分光計,受迫離子束方法,時序電化學還原分析還有其他的測量方法相比較,它基于更可靠的測量技術。 ST4080-OSP 可獲取420nm~640nm范圍內的多波長光譜。 ST4080-OSP可提供各點和它們的平均厚度的詳細數據,這樣可幫助人們更好地控制OSP質量。 ST4080-OSP 通過3D表面形態學將測量程序最優化。

      薄膜厚度測量儀

      薄膜厚度測量儀

      • 品牌: 南京科美
      • 型號: ST5000
      • 產地:韓國
      • 供應商:北京三尼陽光科技發展有限公司

        儀器簡介:1996年以來,科美在半導體,平板顯示器,電子物質,生命科學和化學分析上,研發和提供了獨特的,先進的解決方案。科美,作為測量和分析技術市場上的領頭和動力,以它突出的表現得到了世界范圍的認可。技術參數:活動范圍 ~300mm x 300mm 測量范圍 100~ 35(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40/20,4(option) 測量速度 1~2 sec./site(fitting time) 應用領域 All Capability of ST2000 & More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measurement 選擇 Transmittance Module Reference Sample(K-MAC or KRISS or NIST) 接物鏡旋轉器 Quintuple Revolving Nosepiecs 焦點 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附帶照明 12v 100W Halogen Lamp主要特點:尺寸 1100 x 1250 x 1550 mm 重量 400kg 類型 自動的 測量方法 無連接的 測量原理 反射計 特征 測量迅速,操作簡單 非接觸式,非破壞方式 優秀的重復性和再現性 2D/3D 映射和造型 自動機械活動控制 電荷耦合器件照相機 自動調焦

      薄膜厚度測量儀

      薄膜厚度測量儀

      • 品牌: 南京科美
      • 型號: ST5030-SL
      • 產地:韓國
      • 供應商:北京三尼陽光科技發展有限公司

        儀器簡介: 1996年以來,科美在半導體,平板顯示器,電子物質,生命科學和化學分析上,研發和提供了獨特的,先進的解決方案。科美,作為測量和分析技術市場上的領頭和動力,以它突出的表現得到了世界范圍的認可。 技術參數: 活動范圍 300mm x 300mm 測量范圍 100~ 35(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40/20,4(option) 測量速度 1~2 sec./site (fitting time) 應用領域 All Capability of ST2000 & More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measure 選擇 Reference sample(K-MAC or KRISS or NIST) Anti-vibration table 接物鏡轉換器 Quintuple Revolving Nosepiecs 焦點 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附帶照明 12v 100W Halogen Lamp 主要特點: 標準模型 工業規格 自動的X-Y平臺 自動調焦 半導體和裂變產物探測 尺寸 500 x 750 x 650 mm 重量 80Kg 類型 自動 測量型號 ≤ 4" 測量方法 無連接的 測量原理 反射計 特征 測量迅速,操作簡單 非接觸式,非破壞方式 優秀的重復性和再現性 2D/3D 映射和造型 自動機械活動控制 電荷耦合器件照相機 自動調焦

      薄膜厚度測量儀

      薄膜厚度測量儀

      • 品牌: 南京科美
      • 型號: ST4000-DLX
      • 產地:韓國
      • 供應商:北京三尼陽光科技發展有限公司

        儀器簡介: 1996年以來,科美在半導體,平板顯示器,電子物質,生命科學和化學分析上,研發和提供了獨特的,先進的解決方案。科美,作為測量和分析技術市場上的領頭和動力,以它突出的表現得到了世界范圍的認可。 技術參數: 活動范圍 200mm x 200mm(8"), 300mm x 300mm(12") 測量范圍 100~ 35(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40/20, 4(option) 測量速度 1~2 sec./site 應用領域 All Capability of ST2000 & More Precision Measurement Intended for Wafer Measurement & OLED 選項 Programmable Auto Z Stage 參考樣品(K-MAC or KRISS or NIST) 焦點 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附帶照明 12v 100W Halogen Lamp 主要特點: 尺寸 500 x 610 x 640 mm 重量 45Kg 類型 手動的 測量樣本大小 ≤ 8", 12" 測量方法 無連接的 測量原理 反射計 特點 測量迅速,操作簡單 非接觸式,非破壞方式 Print Function of Each View & Data Saving

      薄膜厚度測量儀ST2000-DLXn

      薄膜厚度測量儀ST2000-DLXn

      • 品牌: 南京科美
      • 型號: ST2000-DLXn
      • 產地:韓國
      • 供應商:北京三尼陽光科技發展有限公司

        儀器簡介: 1996年以來,科美在半導體,平板顯示器,電子物質,生命科學和化學分析上,研發和提供了獨特的,先進的解決方案。科美,作為測量和分析技術市場上的領頭和動力,以它突出的表現得到了世界范圍的認可。 技術參數: 活動范圍 150 x 120mm(70 x 50mm 移動距離) 測量范圍 200~ 35(根據膜的類型) 光斑尺寸 20 典型值 測量速度 1~2 sec./site 應用領域 聚合體: PVA, PET, PP, PR ... 電解質: SiO2 ,TiO2 , ITO , ZrO2 , Si3N4 .. 半導體: Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS... 選擇 參考樣品(K-MAC or KRISS or NIST) 探頭類型 三目探頭 nosepiece Quadruple Revolving Mechanism with Inward Tilt 照明類型 12V 35W Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer 主要特點: 尺寸 190 x 265 x 316 mm 重量 12Kg 類型 手動的 測量樣本大小 ≤ 4" 測量方法 非接觸式 測量原理 反射計 特征 測量迅速,操作簡單 非接觸式,非破壞方式 優秀的重復性和再現性 用戶易操作界面 每個影像打印和數據保存功能 可測量多達3層 可背面反射

      德國應用光譜Plasma Emission Messurement System白光干涉膜厚儀

      德國應用光譜Plasma Emission Messurement System白光干涉膜厚儀

      • 品牌: 德國applied-spectroscopy
      • 型號: Plasma Emission Messurement System
      • 產地:德國
      • 供應商:安柏來科學儀器(上海)有限公司

        等離子體發射測量在紫外線…近紅外線范圍可同時觀察到等離子發射低壓等離子沉積技術是一個客觀的連續不斷的過程,如PVD(物理氣象沉積)是今天真正的問題之一。除了等離子體發射光的表觀檢查,有時也使用質譜技術。但是質譜技術既不方便操作,其結果也不容易理解。與此相比,使用OES(發射光譜)和光纖耦合TranSpec光譜儀的有點是顯而易見的。技術特征在200…1000nm光譜范圍內可同時測量可檢測非常底的發射信號可連接到幾乎每個真空室無需維護舒適和易于使用的PEMProVis專業版軟件用于全球主要的汽車燈以及CD生產商進行有機膜厚測試

      德國應用光譜TranSpec白光干涉膜厚儀

      德國應用光譜TranSpec白光干涉膜厚儀

      • 品牌: 德國applied-spectroscopy
      • 型號: TranSpec
      • 產地:德國
      • 供應商:安柏來科學儀器(上海)有限公司

        產品描述TranSpec光譜儀結合創新的光電技術與強大的模擬/數字電子技術和最新的計算機技術。借助于靈活的光纖,TranSpec的應用范圍從標準的常規實驗室分析到在線過程測量技術的特殊任務。使用FSMA標準光纖連接的高穩定性光電二級管陣列分光計使用spurious-free動態范圍的1MHz16位模擬/數字轉換器針對紫外線……近紅外光譜范圍可使用不同的分光計模塊可選的集成鹵素或氘/鹵素結合光譜燈無可移動部分-無需重復校準-無需維護可連接到標準USB2.0(USB3.0)或選擇連到以太網/局域網可用程序庫開發特殊的應用應用領域用于全球主要的汽車燈以及CD生產商進行有機膜厚測試。

      應用光譜TranSpec ----Mirco白光干涉膜厚儀

      應用光譜TranSpec ----Mirco白光干涉膜厚儀

      • 品牌: 德國applied-spectroscopy
      • 型號: TranSpec Micro
      • 產地:德國
      • 供應商:安柏來科學儀器(上海)有限公司

        產品描述TranSpecMicro新的光纖耦合TranSpecMicro薄膜厚度顯微鏡可以將薄膜厚度測量點的大小降到50-100um。測量點的圖像可通過裝在顯微鏡上的特殊彩色相機實時查看。TranSpecMicro薄膜厚度測量儀和我們TranSpec和TranSpecLite儀器一樣采用白光干涉原理。為了測量非常小的點,TranSpecMicro使用裝有實時顯示相機的光纖耦合顯微鏡。光纖耦合纖維鏡可以將薄膜厚度測量點的大小降到50-100um(根據放大倍數的不同),測量點的圖像可通過裝在顯微鏡上的特殊彩色相機實時查看。應用領域主要用于全球主要的汽車燈以及CD生產商進行有機膜厚測試。

      德國應用光譜TranSpec -Lite白光干涉膜厚儀

      德國應用光譜TranSpec -Lite白光干涉膜厚儀

      • 品牌: 德國applied-spectroscopy
      • 型號: Transpec Lite
      • 產地:德國
      • 供應商:安柏來科學儀器(上海)有限公司

        技術特點光學方法,非接觸、無損測量,安全無輻射。快速膜厚分析,只需幾毫秒即可獲得測量結果膜厚測量范圍 0.1- 150微米( 0.004 to 6 mil )極高的分析準確度,在整個厚度測量范圍內偏差小于0.005微米可同時分析計算兩層膜厚可同時支持實驗室離線分析或者在線生產分析主要用于全球主要的汽車燈以及CD生產商進行有機膜厚測試。

      薄膜測厚儀

      薄膜測厚儀

      • 品牌: 美國Semiconsoft
      • 型號: MProbe
      • 產地:美國
      • 供應商:廣州市固潤光電科技有限公司

        MProbe 薄 膜 測 量 系 統 M p r o b e 讓 你 成 為 測 量 專 家 ! 大部分半透明的或具有輕微吸收性的薄膜能夠被快速、可靠的測量: 氧化物、氮化物、感光耐蝕膜、聚合物、半導體(Si, aSi,polySi)、半導體化合物(AlGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS)、硬涂層(SiC, DLC), 聚合物涂料 (Paralene, 聚甲基丙烯酸甲酯, 聚酰胺), 薄金屬薄膜等。 厚度范圍: 1 nm-1 mm 波長范圍: 200nm -5000nm 在薄膜太陽能電池中的應用: aSi, TCO, CIGS, CdS, CdTe-全太陽能堆棧測量 LCD, FPD應用: ITO, 細胞間隙,聚酰胺。 光學涂層: 介質濾波器,硬涂層,防反射涂層半導體和電解質: 氧化物,氮化物, OLED堆。 實時測量和分析。各種多層次的, 高強度的,厚的, 獨立和不均勻的層 。 豐富的材料庫 (500多種材料) 新材料容易增添。 支持參數化材料: Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA 等 使用靈活: 可聯網在操作臺桌面或現場進行研究與開發。用TCP或Modbus接口能容易的和外部系統連接。 測量參數: 厚度、光學常數、表面粗糙度。 界面友好強大: 測量和分析設置簡單。背景和縮放修正,連接層和材料。 離線數據分析: 仿真和靈敏度分析,多樣品測量,生產批量處理。 MProbe系統示意圖 精度 0.01nm or 0.01% 精確度 0.2% or 1 nm 穩定性 0.02nm or 0.03% 光斑尺寸 標準為 3mm , 可以小到 3μm 樣本大小 從 1mm 起 主要參數 模型 波長 范圍光譜儀探測器/檢測器/光源 厚度范圍 * VIS 400-1100 nm 分光儀 F4/Si 3600像素點/ 鎢-鹵素光源 15 nm to 20 mm (option:up to 50 mm) UVVisSR 200-1100 nm 分光儀 F4/ Si CCD 3600 像素點/氘-鎢鹵組合式光源 3 nm to 20 mm (option:up to 50 mm) HRVIS 700-1000 nm HR分光儀F4/Si 3600 像素點/ 鎢-鹵素光源 1 mm to 400 mm NIR 900-1700nm 傳輸光譜儀(TVG) F2/512 InGaAs/鎢-鹵素光源 100 nm-200 mm VISNIR 400-1700 nm 分光儀 F4 Si CCD 3600 像素點 (Vischannel);傳輸光譜儀(TVG) F2/512 InGaAs PDA( NIR channel) 鎢-鹵素光源 15 nm to 200 mm UVVISNIR 200 -1700 nm 分光儀F4 Si CCD 3600 像素點(Vis頻道);傳輸 氘-鎢鹵組合式光源 3 nm -200 mm NIRScan 900nm -5000nm 掃描分光計/InGaAs/ MCT 探測器 (掃描時間 <60 秒 ) TH-SiN光源 100 nm -800 mm XT XT 1590nm -1650nm 傳輸光譜儀 (TVG) F2/512 InGaAs/鎢 -鹵素光源 10 mm- 1 mm * T, n & k 測量的厚度范圍為25nm 5um 其他配置也是可以做到,歡迎原始設備制造商咨詢和定制開發項目。 對所有系統中的配件有一年的質量保證。

      Kurabo NR2100 油膜測厚儀(汽車、冷軋板)

      Kurabo NR2100 油膜測厚儀(汽車、冷軋板)

      • 品牌: 日本倉紡
      • 型號: NR 2100
      • 產地:日本
      • 供應商:上海韻鼎國際貿易有限公司

        儀器用途簡介:汽車鋼板上的防銹油、滾軋潤滑油等涂油量的測量耐指紋、潤滑性鋼板等有機油膜厚度的測量鋁罐(易拉罐內壁)等有機膜涂布量的測量彩色鋼板的底漆厚度及背面涂布量的測量其他金屬上有機膜涂布量的測量技術參數:測量方法:紅外反射吸收方式(旋轉過濾器方式)測量范圍:0.1~10μm反復再現性:0.01μm以下測量面積:518×36mm(橢圓)尺寸?重量:100(W)×210(D)×145(H)、約1.5kg主要特點:三點定位,獨特光源,精確精確再精確。本產品深得鋼鐵業、鋁業客戶厚愛。如果把紅外線照射到被測物上,就會發生與膜厚相對應的特定波長的紅外線吸收現象。從透過光或鏡面金屬板的正反射光來掌握吸收量,再按事先測得的吸光度與水分值的關系式,可以測量膜厚。并且,采用本公司獨自的P偏光入射方式。消除因表面反射或內部多重反射引起的誤差,提供紅外線測厚儀最理想的硬件。 小型、輕量自由攜帶,可測量鋼板上的任意位置。 高性能通過采用P偏光方式,即使是薄的有機膜也可測量。 內置打印機因內部設置了打印機,數據的整理變得極為簡單。

      美國Rtec三維形貌儀

      美國Rtec三維形貌儀

      • 品牌: 美國Rtec
      • 型號: UP- 3D
      • 產地:美國
      • 供應商:南京冉銳科技有限公司

        美國Rtec三維形貌儀測量系統沿著縱軸捕獲一系列位置的光強數據。通過白光干涉圖的形狀,干涉圖的局部相位或者是二者的結合來確定表面位置。本公司還有激光共焦,白光共焦,拉曼光譜儀等,可以把這些設備自由組合在一起,以實現客戶的不同需求特點:快速直觀的操作較高的計算程序,精確的高測量速度和簡便的操作軟件,使用戶能夠快速的分析和創建報告多個物鏡帶有6物鏡轉輪,包括多個物鏡:長焦,短焦,不同數值孔徑,投射鏡頭等電子器件先進的控制器,低機械噪聲,自校準系統,可選波長,64位并行處理器,標準分辨率達到1920*1920硬件能夠被固定到全自動化的平臺,高強度LED10年保修,高級精加工零部件,低能耗,遠程訪問,內置相機側視圖,有效照明等。軟件三維虛擬軟件影像分析多種標準,粗糙,平面,波浪以及其他表面參數微粒(粒子)和細孔分析力曲線分析附帶傅里葉分析過濾用戶界面報告的創建和編輯影像編輯特征-光,顏色等尺寸,表面積,體積,承載比分析紋理計算,分類,其他紋理分析光譜和分形分析先進的統計分析能夠輸出原始數據,影像,全部報告數個可用的附加功能參數:內校準4百萬像素可選波長高強度長壽命LED1920*1920成像64位中央處理器低機械噪聲并行處理6物鏡轉輪

      三維白光干涉儀

      三維白光干涉儀

      • 品牌: 美國Rtec
      • 型號: UP-WLI
      • 產地:美國
      • 供應商:南京冉銳科技有限公司

        白光干涉測量系統沿著垂直軸向捕獲光強數據,通過白光干涉圖的形狀,局部相位或者兩者結合確定表面位置 Vertical Resolution 垂直分辨率 0.1nm 0.1nm Turret 轉輪 upto 6 objective turret (manual or automatic) 6鏡頭轉輪(自動或手動) Scan Range 掃描范圍 Up to 150mm x 150mm 最高達150mmx150mm Sample thickness 試樣厚度 upto 100mm 最高達100mm FOV 視場 upto 10mm 最高達10mm Objectives 物鏡 10x,50x 10倍,50倍 Z focussing range Z軸方向聚焦范圍 nm to 10mm 0.1nm到10mm Scanning area 掃描區域 150x150mm 150x150mm Tilt 傾斜角 +/- 7 degree +/-7度 Rotation (theta) 平臺旋轉范圍 360 Degree 360度 Pixel 像素 Standard 1024 x 1024 標準1024x1024

      膜厚儀

      膜厚儀

      • 品牌: 美國AEP Technology
      • 型號: NanoMap-1000WLI(0)
      • 產地:美國
      • 供應商:aep Technology中國辦事處

        NanoMap-1000WLI 膜厚儀儀器簡介:該膜厚儀提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數據輸出、數據自動動態存儲、自定義數據顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數據。表面統計的計算包括峰值和谷值分析。基于傅立葉變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數據配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區差異繪圖。主要特點:◆微觀二維(2D)和三維(3D)形貌輪廓獲取◆多種測量功能將采樣數據運算后,可獲得精確定量的面積(空隙率,缺陷密度,磨損輪廓截面積等)、體積(孔深,點蝕,圖案化表面,材料表面磨損體積以及球狀和環狀工件表面磨損體積等)、臺階高度、線與面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半徑以及其它幾何參數等測量數據。NanoMap-1000WLINanoMap-1000WLI膜厚儀是非接觸式三維高清圖像的光學輪廓儀白光干涉儀器 - 白光干涉帶來了高的分辨率、 400萬像素的圖像、大的掃描范圍,可定制的波長范范圍,使用戶可以輕松靈活的的到任何表面形貌。提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數據輸出、數據自動動態存儲、自定義數據顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數據。表面統計的計算包括峰值和谷值分析。基于傅立葉變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數據配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區差異繪圖。膜厚儀主要應用在金屬材料、生物材料、聚合物材料、陶瓷材料等各種材料表面的薄膜厚度,臺階高度,二維粗糙度(Ra,Rq,Rmax...),三維粗糙度(Sa,Sq,Smax),劃痕截面面積,劃痕體積,磨損面積,磨損體積,磨損深度,薄膜應力(曲定量率半徑法)等定量測量。擺脫了以往只能得到二維信息,或三維信息過于粗糙的現狀。將輪廓儀帶入了另一個高精度測量的新時代。測量表面可以覆蓋90%以上材料表面。設備傳感器精度高,穩定性好,材料應用面廣。熱噪聲是同類產品最低的。垂直分辨率可達0.01 nm ( phase-shift mode) 可測跨學科、跨領域的各種樣品表面,包括透明、金屬材料,半透明、高漫反射,低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發、牙齒…);三維形貌儀參數性能追尋持續改進的目標AEP的技術致力于日新月異的改善產品性能參數。 欲了解最新的配置和性能,請與我們聯系。搭載多鏡頭 最多可同時搭載6枚物鏡Z軸聚焦范圍 0.1納米至10mm手動旋轉平臺范圍 360度高清圖像2維、3維的直方圖等視圖白光干涉可以呈現2維和3維圖像。利用所提供的軟件,通過設置一些選項、可以得到客戶需求的的曲線、標繪、視圖(例如直方圖及雷達圖等)成像光源長壽命強光LED,用戶可自選波長范圍白光干涉儀對其光源承諾史無前例的十年質保。高亮的LED允許成像樣品的反射率范圍從小于0.4%到100%(高亮度的LED使反射率從小于0.4%到100%的樣品均可清晰成像。)白光干涉光源承諾十年質保。三維形貌儀允許客戶改變可用波長掃描各種樣品。聯系方式:aep Technology電話:+86-010-68187909傳真:+86-010-68187909手機:+86-15611184708何先生公司網址:www.aeptechnolongy.com.cn關

      臺階儀臺階測量儀

      臺階儀臺階測量儀

      • 品牌: 美國AEP Technology
      • 型號: NanoMap-1000WLI(1)
      • 產地:美國
      • 供應商:aep Technology中國辦事處

        儀器簡介:臺階儀該款臺階儀提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數據輸出、數據自動動態存儲、自定義數據顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數據。表面統計的計算包括峰值和谷值分析。基于傅立葉變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數據配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區差異繪圖。臺階儀主要特點: ◆微觀二維(2D)和三維(3D)形貌輪廓獲取 ◆多種測量功能 將采樣數據運算后,可獲得精確定量的面積(空隙率,缺陷密度,磨損輪廓截面積等)、體積(孔深,點蝕,圖案化表面,材料表面磨損體積以及球狀和環狀工件表面磨損體積等)、臺階高度、線與面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半徑以及其它幾何參數等測量數據。 NanoMap-1000WLI NanoMap-1000WLI臺階儀是非接觸式三維高清圖像的光學輪廓儀白光干涉儀器 - 白光干涉帶來了高的分辨率、 400萬像素的圖像、大的掃描范圍,可定制的波長范范圍,使用戶可以輕松靈活的的到任何表面形貌。提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數據輸出、數據自動動態存儲、自定義數據顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數據。表面統計的計算包括峰值和谷值分析。基于傅立葉變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數據配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區差異繪圖。 臺階儀主要應用在金屬材料、生物材料、聚合物材料、陶瓷材料等各種材料表面的薄膜厚度,臺階高度,二維粗糙度(Ra,Rq,Rmax...),三維粗糙度(Sa,Sq,Smax),劃痕截面面積,劃痕體積,磨損面積,磨損體積,磨損深度,薄膜應力(曲定量率半徑法)等定量測量。擺脫了以往只能得到二維信息,或三維信息過于粗糙的現狀。將輪廓儀帶入了另一個高精度測量的新時代。 測量表面可以覆蓋90%以上材料表面。設備傳感器精度高,穩定性好,材料應用面廣。熱噪聲是同類產品最低的。垂直分辨率可達0.01 nm ( phase-shift mode) 可測跨學科、跨領域的各種樣品表面,包括透明、金屬材料,半透明、高漫反射,低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發、牙齒…); 臺階儀 參數性能追尋持續改進的目標 AEP的技術致力于日新月異的改善產品性能參數。 欲了解最新的配置和性能,請與我們聯系。 搭載多鏡頭 最多可同時搭載6枚物鏡 Z軸聚焦范圍 0.1納米至10mm 手動旋轉平臺范圍 360度 高清圖像 2維、3維的直方圖等視圖 白光干涉可以呈現2維和3維圖像。利用所提供的軟件,通過設置一些選項、可以得到客戶需求的的曲線、標繪、視圖(例如直方圖及雷達圖等) 臺階儀成像光源 長壽命強光LED,用戶可自選波長范圍 白光干涉儀對其光源承諾史無前例的十年質保。高亮的LED允許成像樣品的反射率范圍從小于0.4%到100%(高亮度的LED使反射率從小于0.4%到100%的樣品均可清晰成像。)白光干涉光源承諾十年質保。 三維形貌儀允許客戶改變可用波長掃描各種樣品。 聯系方式:aep Technology 電話:+86-010-68187909 傳真:+86-010-68187909 手機:+86-15611184708何先生 公司網址:www.aeptechnolongy.com.cn關鍵詞:三維表面輪廓儀、三維輪廓儀、白光干涉儀、三維臺階儀、三維薄膜分析儀、三維形貌儀、三維粗糙度儀、表面輪廓儀、表面臺階儀、薄膜分析儀、表面形貌儀、表面粗糙度儀、非接觸式輪廓儀、非接觸式臺階儀、非接觸式表面形貌儀、非接觸式表面粗糙度儀、接觸式輪廓儀、接觸式臺階儀、接觸式表面形貌儀、接觸式表面粗糙度儀、探針式輪廓儀、探針式臺階儀、探針式表面形貌儀、探針式表面粗糙度儀、雙模式輪廓儀、雙模式臺階儀、雙模式表面形貌儀、雙模式表面粗糙度儀、三維表面輪廓儀、三維表面臺階儀、三維表面形貌儀、三維表面粗糙度儀,表面臺階儀,三維臺階儀,薄膜臺階儀,微觀臺階儀,臺階測量儀

      進口德國BMT WLI VLA干涉儀

      進口德國BMT WLI VLA干涉儀

      • 品牌: 德國BMT
      • 型號: WLI VLA
      • 產地:德國
      • 供應商:佰匯興業(北京)科技有限公司

        德國BMT WLI VLA干涉儀德國BMT WLI VLA干涉儀可快色準確的測量粗糙和鏡面反射工件的表面輪廓。可用于測量平整度、波紋度、扭曲、臺階高度和多種其他表面特性。產品特點:粗糙和鏡面反射表面的微觀測量平整度和輪廓測量測量結果不受樣品的顏色和材料影響測量時間短,數秒完成測量范圍大快速分析表面結構非常小巧自動獲取數據并評估進行可定制各種配置幾乎免維護技術參數:光源 LED測量范圍 (mm) 15垂直分辨率(nm) ≥1橫向分辨率(μm) 20-80測量面積 (mm) 10×10 40×40工作距離 (mm) 24數碼相機<14位(Pixel) 1280×1024

      進口德國BMT WLI Infra干涉儀

      進口德國BMT WLI Infra干涉儀

      • 品牌: 德國BMT
      • 型號: WLI Infra
      • 產地:德國
      • 供應商:佰匯興業(北京)科技有限公司

        WLI Infra干涉儀德國BMT WLI Infra干涉儀是用于硅薄膜的厚度測量設備。儀器適用于實驗室、車間和生產線上的質量管理。測量頭提供空前的重復性,設計堅固緊湊、免維護,適用于在線測量。產品特點:MEMS、硅梁、透明薄材料的非接觸高精度厚度測量;納米級分辨率;手動或自動測量步驟設計,簡單易用;不受溫度變化和熱效應的影響;極佳的重復性;可配備表面輪廓測量。技術參數:厚度分辨率(nm) <1探針大小 (μm) 約150(可定制)厚度范圍 (μm) 0.1-600儀器尺寸 (mm) 320x320x380重量 (kg) 120晶圓夾具 定制,可達30cm 全自動測量標準或定制的軟件包

      德國BMT WLI Lab 白光干涉儀

      德國BMT WLI Lab 白光干涉儀

      • 品牌: 德國BMT
      • 型號: WLI Lab
      • 產地:德國
      • 供應商:佰匯興業(北京)科技有限公司

        德國BMT WLI Lab 白光干涉儀德國BMT WLI Lab 白光干涉儀可準確快速測量表面輪廓、粗糙度參數、臺階高度及其他各種表面參數,具有穩定性高,設計堅固和易于操作的特點。LED光源的應用使得在即使是很微弱的反射表面上也可進行測量。專為電子、汽車、工程工業、研究所而特別研發。主要用途: ........◆ 粗糙和光滑表面的顯微測量◆ 產品凸凹結構圖◆ 可根據特殊用途定制主要特點:◆粗糙和光滑表面的顯微測量;◆數秒內快速測量;◆快速更換被測物;◆測量結果不受樣品的顏色和材料影響;◆產品堅固耐用。技術數據:◆光源: LED(多個)◆垂直分辨率(nm) <0.1◆焦距,大約(mm) 15◆圖像尺寸(像素) 1400×1000移動平臺◆X、Y、Z軸(mm) 50~300或更大◆步長(μm) 1◆平直度/100mm 約1μm冷軋和拉絲不銹鋼表面的顯微測量和特性描述

      德國BMT WLI RING 干涉儀

      德國BMT WLI RING 干涉儀

      • 品牌: 德國BMT
      • 型號: WLIRING
      • 產地:德國
      • 供應商:佰匯興業(北京)科技有限公司

        WLIRing 測量系統用于快速準確測量圓柱形工件的表面形貌,計算粗糙度參數,微觀結構,及外壁表面特征。WLI Ring 產品特點● 對內外壁都可進行測量;● 光滑粗糙表面都可進行測量;● 測量結果不受工件的顏色和材料影響;● 數秒內快速測量;● 用于在線測量的OEM測量頭。技術參數測量頭光源: LED垂直分辨率(nm): <1水平分辨率(μm):≥1焦距,大約(mm): 1測量區域的尺寸: 由物體決定圖像尺寸(Pixel): 1000&×1000

      德國BMT WLI Linik干涉儀

      德國BMT WLI Linik干涉儀

      • 品牌: 德國BMT
      • 型號: WLI Linik
      • 產地:德國
      • 供應商:佰匯興業(北京)科技有限公司

        德國BMT WLI Linik干涉儀 特點: 區域表面的形貌測量; 數秒內快速測量; 粗糙和光滑表面都可測量; 測量結果不受樣品的顏色和材料影響; 產品堅固耐用。 技術參數: 光源 LED 測量范圍 (mm) 150 垂直分辨率(nm) 1 橫向分辨率(μm) >0.2 測量面積 (μm) 90×70 工作距離,約(mm) 0.3 光斑尺寸,約(μm) 0.95 圖像尺寸(Pixel) 1~10

      德國BMT WLI LA 白光干涉儀

      德國BMT WLI LA 白光干涉儀

      • 品牌: 德國BMT
      • 型號: WLI LA
      • 產地:德國
      • 供應商:佰匯興業(北京)科技有限公司

        WLI LA 白光干涉儀德國BMT WLI LA 白光干涉儀比使用顯微物鏡的設備可測面積大得多,同時具有非常高的數值孔徑。非常適于平整度測量。特點:● 表面輪廓和平整度測量;● 粗糙和光滑表面均可測量;● 測量不受顏色和材料影響;● 數秒內完成測量;● 測量范圍大。技術參數:適用于較大面積平面的表面結構形狀測量測量頭● 光源 LED● 測量范圍 (μm) 100/150● 垂直分辨率(nm) ≥1● 橫向分辨率(μm) 30● 測量面積 (mm) 14×10● 工作距離 (mm) 24● 數碼相機<14位(Pixel) 1392×1040

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